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2001

21.09.2001

Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik und TU Clausthal beteiligen sich an der Entwicklung neuer Werkstoffe für die weitere Miniaturisierung von Transistoren.

Das europäische Forschungskonsortium INVEST will mit Hilfe neuer Materialien die technologischen Schranken für eine weitere Miniaturisierung von Halbleiterbauelementen überwinden. Das Projekt startete im Juli 2001 und wird im fünften Rahmenprogramm der Europäischen Kommission zur Informationsgesellschaft gefördert. INVEST (Integration of very high-k dielectrics with silicon CMOS technology) steht für „Integration dielektrischer Materialien mit einer hohen Dielektrizitätskonstante in die Silizium-CMOS(Complementary Metal-Oxide Semiconductor)-Technologie“, die dominierende Herstellungstechnik für Mikroprozessoren. Die Mitarbeiter um Prof. Gösele vom Hallenser Max-Planck-Institut für Mikrostrukturphysik bringt dazu ihre Kompetenz in der Transmissionselektronenmikroskopie und der elektrischen Messtechnik ein, mit der die Qualität neuartiger Oxid-Silizium- Grenzflächen detailliert untersucht werden soll. Die Technische Universität Clausthal beteiligt sich an dem Projekt mit Simulationen des Materialwachstums sowie der Bindungsverhältnisse und der Atomstruktur in den neuen Materialien.